光刻工艺毕业论文

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光刻的精度和质量将直接影响器件的性能指标,同时也是影响器件的成品率和可靠性的重要因素.所以光刻工艺无论是在现在还是在将来都将是一个永无止境的高技术

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微电子工艺——光刻工艺学生姓名电子科学与技术指导教师二O一三光刻工艺南京信息工程大学电子工程系，南京摘要：光刻 (photoetching)是通过一系列生产步骤将

在器件应用中,降低 AgNWs 之间的高接触电阻能够显著提高器件性能,构建高精度图案化AgNW电极则能够赋予器件以新的功能和集成化器件结构。通常,人们需要采用多步、冗繁的工艺流程来

指导教师2012 光刻工艺的研究光刻工艺的研究 摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选 择性扩散和金属膜布线的目的。. 光刻工艺是利